等離子設(shè)備是一種應(yīng)用廣泛的高科技裝置，它把氣體或者液態(tài)物質(zhì)通過(guò)電離加熱的方式，制造出等離子態(tài)的物質(zhì)。等離子體廣泛應(yīng)用于等離子切割，材料表面改性，能源相關(guān)領(lǐng)域等多個(gè)方面，其優(yōu)越的高溫高能特性讓其成為了很重要的工業(yè)裝備。然而，我們也必須認(rèn)識(shí)到，在應(yīng)用中，等離子設(shè)備所產(chǎn)生的高能粒子，往往會(huì)對(duì)人類(lèi)身體造成一定的危害。本文將重點(diǎn)介紹等離子設(shè)備容易產(chǎn)生的對(duì)人體有害的害處。
1.輻射
等離子體在運(yùn)行過(guò)程中，會(huì)釋放出大量的輻射。這些輻射可能是X射線(xiàn)、γ射線(xiàn)、中子等高能粒子。長(zhǎng)期在這些輻射環(huán)境下工作的人員，可能會(huì)受到輻射的影響，引發(fā)癌癥、DNA損傷等健康問(wèn)題。因此，在使用等離子設(shè)備時(shí)，必須采取相應(yīng)的措施減少輻射對(duì)人體的危害，例如選擇合適的防護(hù)材料、控制輻射區(qū)域范圍、減少時(shí)間等。
2.眩暈
運(yùn)行中的等離子設(shè)備會(huì)釋放出強(qiáng)烈的輻射和電場(chǎng)，這對(duì)接觸者的神經(jīng)系統(tǒng)和內(nèi)耳會(huì)產(chǎn)生一定的影響。經(jīng)常在高能量等離子區(qū)域工作的人員，可能會(huì)出現(xiàn)頭暈?zāi)垦！盒膰I吐等癥狀，嚴(yán)重者甚至可能會(huì)昏倒。因此，在進(jìn)行相關(guān)工作時(shí)，一定要進(jìn)行足夠的安全計(jì)算，并提供安全清單和必要的保護(hù)裝備。
3.化學(xué)污染
等離子設(shè)備的氣體或液態(tài)物質(zhì)，往往是由多種元素組成，其中可能包含有害元素，例如氧化鉻、亞硝酸鹽等。加上等離子體制備過(guò)程中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)，等離子設(shè)備就可能成為一種潛在的危險(xiǎn)源。這些化學(xué)物質(zhì)，會(huì)透過(guò)呼吸器官、皮膚等途徑進(jìn)入人體，造成健康損害，并嚴(yán)重威脅到工作者本身的健康。針對(duì)化學(xué)污染問(wèn)題，我們也必須追求先進(jìn)的設(shè)備技術(shù)，合理采用清潔工藝，消除污染源。
4.爆炸危險(xiǎn)
等離子設(shè)備中的氣體、液體物質(zhì)在加熱過(guò)程中，可能會(huì)處于高溫、高壓狀態(tài)，一旦某些條件滿(mǎn)足，就會(huì)形成爆炸性反應(yīng)。這對(duì)人身安全造成了極大威脅。制定有效的安全規(guī)則和方案，以及進(jìn)行嚴(yán)格的設(shè)備運(yùn)行監(jiān)測(cè)和檢查，是預(yù)防等離子設(shè)備產(chǎn)生爆炸危險(xiǎn)的必要手段。
5.聲訊危害
等離子設(shè)備往往通過(guò)產(chǎn)生聲波驅(qū)動(dòng)氣流或者激發(fā)電離能量，來(lái)實(shí)現(xiàn)其各種用途。長(zhǎng)期工作在這樣的環(huán)境中，接觸者可能會(huì)遭受到各種頻率和強(qiáng)度的聲音刺激，引發(fā)多種聽(tīng)力相關(guān)健康問(wèn)題，如噪聲耳聾和耳鳴。針對(duì)此類(lèi)危害，我們推薦設(shè)立的醫(yī)學(xué)顧問(wèn)，并對(duì)生產(chǎn)企業(yè)予以嚴(yán)格管理。
總之，等離子設(shè)備雖然在工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，但對(duì)人身安全與健康造成的危害也不容忽視。因此，生產(chǎn)企業(yè)和使用者必須更加重視設(shè)備安全管理與運(yùn)營(yíng)規(guī)范，推行防護(hù)、監(jiān)測(cè)和檢查等措施，大限度地消除等離子設(shè)備對(duì)身體健康的危害。等離子處理設(shè)備工作原理
廢氣處理中洗滌系統(tǒng)用來(lái)和廢氣在洗滌塔內(nèi)進(jìn)行預(yù)處理化學(xué)反應(yīng)，去處粉塵且通過(guò)化學(xué)反應(yīng)后的氣體達(dá)到廢氣一級(jí)凈化處理，具體包括專(zhuān)用填料、噴淋裝置、脫水層、風(fēng)機(jī)、加藥系統(tǒng)等。
低溫等離子凈化器內(nèi)部裝有獨(dú)特的碰吸單元，截留去除廢氣中的顆粒物質(zhì)，廢氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過(guò)等離子活性氧凈化裝置，在高壓等離子電場(chǎng)的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的廢氣離子進(jìn)行電離荷電凈化，帶電的微小離子(塵埃粒子)被吸附單元所收集并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉,達(dá)到廢氣處理的目的。
吸附催化凈化處理裝置是一種干式廢氣處理設(shè)備。由箱體和裝填在箱體內(nèi)的吸附單元組成，吸附單元根據(jù)廢氣處理要求添加催化劑達(dá)到進(jìn)一步去處異味氣體的目的?？刂葡到y(tǒng)主要用來(lái)控制系統(tǒng)開(kāi)機(jī)、停運(yùn)，并對(duì)系統(tǒng)運(yùn)行效果進(jìn)行檢測(cè)，反饋。
等離子處理設(shè)備工藝流程
氣體收集系統(tǒng)—預(yù)處理噴淋洗滌系統(tǒng)—低溫等離子凈化系統(tǒng)—深度氣體吸附催化系統(tǒng)—排放系統(tǒng)—控制系統(tǒng)氣體收集系統(tǒng)主要是將構(gòu)筑物自由揮發(fā)的氣體收集起來(lái)并輸送到后續(xù)處理系統(tǒng)。具體包括氣罩系統(tǒng)、管道輸送系統(tǒng)和風(fēng)機(jī)。
等離子處理器是一種新型的高溫、高能量加工技術(shù)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、玻璃、陶瓷、金屬材料等領(lǐng)域的表面處理和改性。然而，在實(shí)際應(yīng)用中，由于不同材料的特性和操作參數(shù)的影響，等離子處理器有時(shí)可能出現(xiàn)不出火的情況。本篇文章旨在通過(guò)探討其原因，并提供相應(yīng)的解決方案。
1.等離子發(fā)生器參數(shù)設(shè)置不合理
等離子處理器通常配備了專(zhuān)門(mén)的等離子發(fā)生器，用于產(chǎn)生和維持等離子體。如果等離子發(fā)生器的參數(shù)設(shè)置不合理，例如電流、功率、頻率等設(shè)置不當(dāng)，就會(huì)導(dǎo)致等離子體無(wú)法形成和維持，從而造成不出火的情況。此時(shí)，需要重新調(diào)整等離子發(fā)生器的參數(shù)。
2.氣體流量過(guò)小或過(guò)大
在等離子處理器中，氣體是產(chǎn)生等離子體必不可少的介質(zhì)。如果氣體的流量設(shè)置不合理，即過(guò)小或過(guò)大，就會(huì)導(dǎo)致等離子體無(wú)法形成和維持，從而無(wú)法進(jìn)行加工。此時(shí)，需要適當(dāng)調(diào)整氣體的流量。
3.加工工件表面不清潔
加工工件表面的油污、灰塵等雜質(zhì)會(huì)影響等離子處理器的效果。如果加工工件表面不清潔，就會(huì)導(dǎo)致等離子體無(wú)法與工件表面有效接觸，從而不能進(jìn)行加工。此時(shí)，需要對(duì)加工工件進(jìn)行徹底的清洗，并確保表面干燥和無(wú)雜質(zhì)。
4.加工功率過(guò)低或過(guò)高
等離子處理器加工功率是控制加工效果的重要參數(shù)之一。如果加工功率過(guò)低，可能導(dǎo)致等離子體無(wú)法充分激發(fā)，造成加工效果差；如果加工功率過(guò)高，可能會(huì)導(dǎo)致等離子體過(guò)度激發(fā)，產(chǎn)生過(guò)多的放電，進(jìn)而造成不出火的情況。此時(shí)，需要調(diào)整加工功率，使其處于適宜的范圍內(nèi)。
5.材料特性不同
不同的材料具有不同的化學(xué)成分和物理性質(zhì)，對(duì)等離子體的形成和維持有著不同的要求。例如，玻璃等非金屬材料通常需要較高的頻率來(lái)產(chǎn)生等離子體，而金屬材料則通常需要較高的電流和功率。因此，在進(jìn)行等離子處理時(shí)，需要針對(duì)不同的材料進(jìn)行相應(yīng)的參數(shù)設(shè)置。
以上為等離子處理器不出火的主要原因及其解決方案。在實(shí)際操作中，我們還應(yīng)該注意以下幾點(diǎn)：
1.在使用等離子處理器前，仔細(xì)閱讀廠家提供的說(shuō)明和操作手冊(cè)，并按照要求正確設(shè)置參數(shù)；
2.在加工之前，對(duì)加工工件進(jìn)行充分清洗和檢查，確保表面干燥、干凈、無(wú)雜質(zhì)；
3.在操作過(guò)程中，隨時(shí)觀察等離子體的狀態(tài)和加工效果，及時(shí)調(diào)整參數(shù)以達(dá)到佳效果；
4.注意設(shè)備的保養(yǎng)和維護(hù)，定期進(jìn)行清洗和檢查，及時(shí)更換損壞的部件。
綜上所述，等離子處理器不出火可能是由多種原因引起的，需要根據(jù)具體情況進(jìn)行分析和處理。合理設(shè)置參數(shù)、適當(dāng)調(diào)整氣體流量、確保加工表面干凈、注意加工功率及不同材料特性等，都是避免或解決這一問(wèn)題的有效方法。
